logo
Wuxi Special Ceramic Electrical Co.,Ltd
สินค้า
ข่าว
บ้าน > ข่าว >
ข่าวบริษัท เกี่ยวกับ อะไรทำให้เซรามิก Al2O3 ที่มีความบริสุทธิ์สูงเหมาะสำหรับอุปกรณ์แปรรูปเซมิคอนดักเตอร์
กิจกรรม
ติดต่อ
ติดต่อ: Miss. Zhu
ติดต่อตอนนี้
โทรหาเรา

อะไรทำให้เซรามิก Al2O3 ที่มีความบริสุทธิ์สูงเหมาะสำหรับอุปกรณ์แปรรูปเซมิคอนดักเตอร์

2026-10-10
Latest company news about อะไรทำให้เซรามิก Al2O3 ที่มีความบริสุทธิ์สูงเหมาะสำหรับอุปกรณ์แปรรูปเซมิคอนดักเตอร์

ภายในโรงงานผลิตเวเฟอร์ การปนเปื้อนจะวัดเป็นส่วนในพันล้านส่วน วัสดุที่ปล่อยอนุภาคโลหะเพียงอนุภาคเดียวหรือชะล้างโซเดียมเข้าไปในห้องกระบวนการสามารถทำลายเวเฟอร์ทั้งหมดได้ นั่นคือเหตุผลที่เซรามิก Al2O3 ที่มีความบริสุทธิ์สูงได้กลายเป็นวัสดุมาตรฐานสำหรับตัวรองรับ ตัวจับยึด ห้อง และทางเข้าออก บทความนี้จะอธิบายว่าอะไรทำให้ เซรามิกอะลูมินาความบริสุทธิ์สูง เหมาะสำหรับ อุปกรณ์แปรรูปเซมิคอนดักเตอร์ และตัวเลขใดที่ผู้ซื้อควรตรวจสอบ

คำถามจากลูกค้า: "ทำไมไม่ใช้ อะลูมินามาตรฐาน"

อะลูมินามาตรฐาน 96% เป็นฉนวนไฟฟ้าที่ดี แต่มีส่วนผสมของแก้วที่มีโซเดียม แคลเซียม และธาตุร่องรอยอื่นๆ ภายใต้พลาสมาและแรงดันสูง ธาตุเหล่านั้นจะอพยพออกจากพื้นผิวและปนเปื้อนเวเฟอร์ เซรามิก อะลูมิเนียมออกไซด์ ที่มีความบริสุทธิ์สูง — โดยทั่วไปคืออัลฟา-อะลูมินา 99.5% หรือดีกว่า — จะกำจัดส่วนผสมออกไป ดังนั้นพื้นผิวจึงยังคงความเฉื่อยทางเคมีแม้ในสารเคมีฟลูออรีนและคลอรีนที่รุนแรง

ทำไมความบริสุทธิ์และความหนาแน่นจึงมีความสำคัญร่วมกัน

ความบริสุทธิ์อย่างเดียวไม่เพียงพอ ตัวเนื้อวัสดุจะต้องมีความหนาแน่นเต็มที่ โดยไม่มีรูพรุนแบบเปิด รูพรุนแบบเปิดจะกักเก็บก๊าซกระบวนการ ปล่อยก๊าซออกมาในห้อง และกักเก็บอนุภาคที่จะหลุดลอกลงบนเวเฟอร์ โครงสร้างจุลภาคที่หนาแน่นและบริสุทธิ์ให้ประโยชน์สามประการพร้อมกัน: ไม่มีการปล่อยก๊าซ การสร้างอนุภาคต่ำสุด และความต้านทานไฟฟ้าสูงที่ยังคงสูงแม้ในอุณหภูมิของกระบวนการ ความแข็งแรงดัดสูงช่วยให้รูปทรงบางและแบนที่รองรับเวเฟอร์ได้โดยไม่เสียรูป

วิธีการระบุ

  • กำหนดความบริสุทธิ์ขั้นต่ำ (99.5% เป็นจุดเริ่มต้นทั่วไป) และปริมาณสิ่งเจือปนทั้งหมดสูงสุด
  • กำหนดให้ไม่มีรูพรุนแบบเปิด และวัดความหนาแน่นใกล้เคียงกับค่าทฤษฎี
  • กำหนดผิวสำเร็จตามกระบวนการ: การเจียรหยาบมักจะเพียงพอ ในขณะที่ชิ้นส่วนที่สัมผัสกับพลาสมาต้องการผิวขัดเงาที่มีความหยาบต่ำ
  • ระบุความเรียบสำหรับพื้นผิวสัมผัสเวเฟอร์ เพื่อให้ความหนาของฟิล์มมีความสม่ำเสมอ
  • ตกลงข้อมูลการตรวจสอบและการบรรจุในห้องคลีนรูมก่อนการปล่อยชิ้นงานแรก

การใช้งาน

ชิ้นส่วนทั่วไป ได้แก่ แผ่นรองรับความบริสุทธิ์สูงสำหรับการประมวลผลเวเฟอร์, ตัวจับยึดเวเฟอร์อะลูมินาขัดเงา และ เวเฟอร์และซับสเตรตอะลูมินาสำหรับวงจรฟิล์มบาง ทั้งหมดผลิตตามแบบพร้อมการตรวจสอบย้อนกลับหมายเลขซีเรียล

ข้อมูลจำเพาะอ้างอิงความบริสุทธิ์สูง

พารามิเตอร์ ค่า พื้นฐาน
ปริมาณอะลูมินา 99.5% Al2O3 (P)
สิ่งเจือปนทั้งหมด < 5000 ppm (P)
ความหนาแน่น 3.92 g/cm3 (P)
รูพรุนแบบเปิด 0% (P)
ความแข็งแรงดัด 380 MPa (P)
ความต้านทานปริมาตร (20 °C) > 10^14 Ω·cm (P)
ความหยาบผิว (ขัดเงา) Ra 0.1 µm (P)
จำนวนอนุภาคที่หลุดลอกบนชิ้นส่วนสำเร็จรูป ตรวจสอบโดยการทดสอบในห้องคลีนรูม (C)

กุญแจพื้นฐาน: (P) ข้อมูลจำเพาะหน้าผลิตภัณฑ์; (T) ค่าวัสดุทั่วไป; (C) จะต้องยืนยันโดยการทดสอบอนุภาคและก๊าซในห้องคลีนรูม

คำถามที่พบบ่อย

ความบริสุทธิ์ 99.5% เพียงพอสำหรับการกัดพลาสมาหรือไม่?

สำหรับเครื่องกัดและเครื่องเคลือบส่วนใหญ่ ใช่ โดยมีเงื่อนไขว่าเนื้อวัสดุมีความหนาแน่นเต็มที่ สารเคมีที่รุนแรงมากอาจต้องการ 99.7% หรือเซรามิกอื่น ดังนั้นควรยืนยันกับกระบวนการจริง

เหตุใดจึงระบุรูพรุนแบบเปิดเป็นศูนย์?

รูพรุนแบบเปิดจะปล่อยก๊าซและกักเก็บอนุภาค ชิ้นส่วนที่มีความหนาแน่นเต็มที่จะรักษาเสถียรภาพแรงดันในห้องและความสะอาดของเวเฟอร์

คุณสามารถจับคู่ชิ้นส่วน OEM ได้โดยไม่ต้องใช้แบบหรือไม่?

ใช่ ตัวอย่างหรือการสแกน 3 มิติที่ยืนยันแล้วเพียงพอที่จะสร้างรูปทรงเรขาคณิตใหม่ได้ ความเรียบและผิวสำเร็จที่สำคัญจะได้รับการยืนยันในชิ้นงานแรกก่อนการผลิตเป็นชุด

นอกเหนือจากชิ้นส่วนเดียว

แผ่นรองรับทำงานเป็นส่วนหนึ่งของการประกอบ ดังนั้นความเรียบ ความสม่ำเสมอของความหนา และคุณสมบัติการติดตั้งจะต้องตรงกับฮาร์ดแวร์ที่ประกบและหุ่นยนต์ที่โหลดเวเฟอร์ ความสม่ำเสมอระหว่างชุดก็มีความสำคัญมากกว่าค่าที่วัดได้เพียงค่าเดียว: กระบวนการที่ปรับให้เข้ากับล็อตหนึ่งจะเบี่ยงเบนไปหากล็อตถัดไปมีความหนาแน่นหรือผิวสำเร็จที่แตกต่างกัน นั่นคือที่ที่เอกสารมีประโยชน์ การยืนยันชิ้นส่วน เซรามิก Al2O3 พร้อมข้อมูลความเรียบและผิวสำเร็จต่อซีเรียล การบรรจุที่สะอาด และล็อตวัสดุที่ตรวจสอบย้อนกลับได้ จะช่วยขจัดความไม่แน่นอนในการรับรองและลดระยะเวลาในการผลิต

อ่านเพิ่มเติม

สำหรับวิธีการที่อะลูมินาเข้ากันได้กับภาพรวมของซับสเตรตเซรามิกที่กว้างขึ้น ควบคู่ไปกับ AlN และ Si3N4 โปรดอ่าน พีระมิดซับสเตรตเซรามิกสามระดับ.